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光刻胶行业现状及趋势 一、光刻胶行业概况 光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基衬底上的有机化合物，是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分，也是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。 光刻胶具有特定的热流性特征，是由光刻胶不同的化学成分的类型、数量和混合过程来决定的。光刻胶有四个主要成分：聚合物、溶剂、感光剂、添加剂。 光刻胶组成基本成分 光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大。在光刻胶不断发展进步的过程中，衍生出非常多的种类，按照应用领域不同，光刻胶可以划分为半导体用光刻胶、液晶显示(LCD)用光刻胶、印刷电路板(PCB)用光刻胶、其他光刻胶。其中，PCB光刻胶技术壁垒较低，而半导体光刻胶代表着光刻胶技术最先进水平。 光刻胶下游应用广泛，涵盖了手机、家电、航空航天、汽车电子等关键的电子行业。光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制造精度，因此光刻胶是支撑产业链的关键材料。 光刻胶产业链示意图 国内光刻胶生产企业较少，整体技术水平和国际先进水平还有差距，自给率不足20%。供过于求市场环境好，随着芯片的发展，未来市场需求增加，光刻胶市场前景好，国产化迫在眉睫。 光刻胶分类情况 二、光刻胶行业国内市场情况 国内光刻胶市场规模自2015年以来增速加快，2019年国内光刻胶市场规模达159亿元，增速15.22%。各下