一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统.pdfVIP

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2023-02-22 发布于四川
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一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统.pdf

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本实用新型涉及一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统，系统包括控制装置、检测装置、执行装置和晶体生长装置。控制装置由PLC主机模块、触摸屏、热电阻输入模块、12个固态继电器和二台变频器组成；PLC主机模块通过输入接口与检测装置中的液位开关及测温热电阻相连，通过输出接口与执行装置中的电加热、电磁阀、循环泵及输送泵相连。溶液配制罐内溶剂和溶质共存，通过控制温度进行溶解，可使溶液所溶解的溶质含量接近溶解温度下的平衡溶质浓度。由于溶液配制罐温度大于培养罐生长温度，从而使溶液中溶解的溶质浓度高于生长温度下

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212771046 U (45)授权公告日 2021.03.23 (21)申请号 202022150001.8 (22)申请日 2020.09.25 (73)专利权人江南大学地址 2