真空吸附平台.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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本实用新型涉及激光切割机技术领域,具体提供了真空吸附平台,包括真空吸盘,所述真空吸盘底壁上设有吸气口,真空吸盘内设有气室,两侧设有贯通孔,所述贯通孔由堵头堵住,所述吸气口与所述贯通孔联通;将所述真空吸盘内的气室分隔成若干隔间,若干所述隔间与所述贯通孔贯通,每个所述隔间上部均设有若干均匀的出气口,在所述真空吸盘的上部扣合有蜂窝板。与现有技术相比,本实用新型使每个隔间的压力大致相等,膜材受到的吸附力均匀分布,因此不会发生翘曲变形,非常有利于膜材的加工切割。

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218517960 U (45)授权公告日 2023.02.24 (21)申请号 202222708384.5 (22)申请日 2022.10.14 (73)专利权人 济南金威刻科技发展有限公司 地址

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