一种高速自动半导体等离子清洗设备.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.03万字
  • 约 11页
  • 2023-02-27 发布于北京
  • 举报

一种高速自动半导体等离子清洗设备.pdf

本实用新型公开了一种高速自动半导体等离子清洗设备,包括机架和设置于所述机架上的三轴龙门机构、等离子清洗头、输送机构、自动上料机构、自动下料机构、识别机构、废气处理系统,所述输送机构横向设置于所述机架上,所述三轴龙门机构横跨于所述输送机构的上方,所述等离子清洗头设置于所述三轴龙门机构的工作端,所述自动上料机构、自动下料机构、输送机构均至少为两组,两组以上的自动上料机构、自动下料机构、输送机构在所述机架上横向平行设置;本实用新型完成产品的自动上下料,通过输送机构精确传送,使等离子清洗头快速定位到需要

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212991034 U (45)授权公告日 2021.04.16 (21)申请号 202022006335.8 (22)申请日 2020.09.15 (73)专利权人 深圳市轴心自控技术有限公司

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档