第二篇扫描电子显微分析.ppt

10.4 表面形貌衬度原理及其应用 二次电子像是利用电子束在试样表面逐点扫描时探测到的二次电子的发射强度形成的图像。由于二次电子的发射强度主要取决于试样表面的倾斜、起伏状况，因此，二次电子像反映的是试样的表面形貌，一般称为形貌像。 二次电子成像原理 * 第三十一页，共四十六页，2022年，8月28日 二次电子只能从样品表面层5~10 nm深度范围内被入射电子束激发出来，大于10 nm时，虽然入射电子也能使核外电于脱离原子面变成自由电子，但因其能量较低以及平均自由程较短，不能逸出样品表面，最终只能被样品吸收。 * 第三十二页，共四十六页，2022年，8月28日 二次电子发射强度与入射角的关系 被入射电子束激发出来的二次电子数量和原子序数没有明显的关系，但对微区表面的几何形状十分敏感。入射电子束与试样表面法线间夹角愈大，二次电子产额愈大。 * 第三十三页，共四十六页，2022年，8月28日 形貌衬度原理 二次电子形貌衬度来源于样品中各区域与入射电子束夹角的差别。 样品中B区域的倾斜度最小，二次电子产额最少，亮度最低； 反之，C区域倾斜度最大，亮度也最大。 二次电子形貌衬度原理 * 第三十四页，共四十六页，2022年，8月28日 实际样品可以被看作是由许多位向不同的小平面组成的。入射电子束的方向是固定的，但由于试样表面凹凸不平，因此它对试样表面不同处的入射角也是不同的。因而在荧光屏上反映出不同的衬度。 实际样品中二次电子的激发过程示意图 突出的尖棱、小粒子、比较陡的斜面处的图像亮度较大； 平面的亮度较低； 深的凹槽底部虽然能产生较多的二次电子，但不易被检测器收集到，因此槽底的衬度较暗。 * 第三十五页，共四十六页，2022年，8月28日 材料现代测试方法 扫描电子显微分析 第一页，共四十六页，2022年，8月28日 本章主要内容 10.1 概述 10.2 扫描电镜的特点和工作原理 10.3 扫描电镜的主要性能 10.4 表面形貌衬度原理及其应用 10.5 原子序数衬度原理及其应用 * 第二页，共四十六页，2022年，8月28日 10.1 概述 扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope，简称SEM）是继透射电镜之后发展起来的一种电子显微镜。早在1935年，德国的Knoll就提出了扫描电镜的工作原理，1965年，第一台商用SEM问世，当时分辨率约为25nm。 我国1973年研制，已生产多种型号的SEM。国产机的分辨率和可靠性等方面与进口机器相比，还有一定的差距，现在SEM主要靠进口。日本每年生产SEM约1600台，国内现有SEM已超过1000台。 * 第三页，共四十六页，2022年，8月28日 * 第四页，共四十六页，2022年，8月28日 FEI Nova400场发射扫描电子显微镜 TESCAN VEGA II可变真空钨灯丝扫描电镜 * 第五页，共四十六页，2022年，8月28日 扫描电子显微镜的成像原理和透射电于显微镜完全不同，它不用电磁透镜放大成像，而是以类似电视摄影显像的方式，利用细聚焦电子束在样品表面扫描时激发出来的各种物型信号来调制成像的。新式扫描电子显微镜的二次电子像的分辨率已达到1nm，放大倍数可从数倍原位放大到20万倍左右。 * 第六页，共四十六页，2022年，8月28日 TEM与SEM的成像原理对比 * 第七页，共四十六页，2022年，8月28日 由于扫描电子显微镜的景深远比光学显微镜大，可以用它进行显微断口分析。用扫描电子显微镜观察断口时，样品不必复制可直接进行观察，这给分析带来极大的方便。因此，目前显微断口的分析工作大都是用扫描电子显微镜来完成的。 目前的扫描电子显微镜不只是分析形貌保，它可以和其它分析仪器相组合，使人们能在同一台仪器上进行形貌、微区成分和晶体结构等多种微观组织结构信息的同位分析。 * 第八页，共四十六页，2022年，8月28日 10.2 扫描电镜的特点和工作原理 扫描电镜的特点 仪器分辨本领较高。二次电子像分辨本领可达1.0nm (场发射)，3.0nm(钨灯丝)； 仪器放大倍数变化范围大（从几倍到几十万倍），且连续可调； 图像景深大，富有立体感。可直接观察起伏较大的粗糙表面（如金属和陶瓷的断口等）； * 第九页，共四十六页，2022年，8月28日 试样制备简单。只要将块状或粉末的、导电的或不导电的试样不加处理或稍加处理，就可直接放到SEM中进行观察。一般来说，比透射电子显微镜（TEM）的制样简单，且可使图像更近于试样的真实状态； 可做综合分析。 SEM装上波长色散X射线谱仪(WD