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- 2023-03-02 发布于四川
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一种离子枪的开关结构,涉及刻蚀设备领域。用于改善刻蚀设备的发射口,所述发射口上方覆盖有分流板,分流板包括若干发射通道,所述分流板上方设有基板,基板设有若干发射通孔,发射通孔与发射通道对应设置,至少一个发射通孔设有反应开关。本实用新型进一步增加了在分流板或基板上的反应开关,由于反应开关是对应在发射通道上的,即对于每个或每组发射通道的离子光源的轰击时间要素是可以进一步被编辑控制的,使得同一刻蚀腔室内进行的刻蚀反应是可以同时兼容不同的反应时间段,提高了设备的生产效率。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218548365 U
(45)授权公告日 2023.02.28
(21)申请号 202223013232.X
(22)申请日 2022.11.10
(73)专利权人 广州晶优电子科技有限公司
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