自动净化HVPE取片舱环境系统.pdfVIP

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2023-03-08 发布于四川
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自动净化HVPE取片舱环境系统.pdf

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本实用新型公开了自动净化HVPE取片舱环境系统，它包括：反应腔（1）；取片舱（2）；所述取片舱安装于反应腔底部；闸阀（3），所述闸阀安装于反应腔底部和取片舱顶部之间；排气控制系统，所述排气控制系统分别与反应腔和取片舱连通。本实用新型的有益效果是本实用新型的有益效果是设计了一种含反应腔、闸阀、气动阀、泵、排气控制系统的装置，最大限度解决上、下片污染腔体环境而导致每次上、下片生长前几炉生长质量相对差等问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213327929 U (45)授权公告日 2021.06.01 (21)申请号 202021897595.2 (22)申请日 2020.09.03 (73)专利权人镓特半导体科技（铜陵）有限公司