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- 2023-03-11 发布于四川
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本实用新型实施例公开了一种用于制备抑菌抛光液的装置及用于双面抛光硅片的系统,所述装置包括第一容器,所述第一容器具有注入开口,所述注入开口用于将去离子水和包含有效抛光成分的浆料原液注入到所述第一容器内;用于储存双氧水的第二容器,所述第二容器与所述第一容器之间设置有连接管道,使得储存在所述第二容器内的双氧水能够注入到所述第一容器中;设置在所述第一容器内的搅拌机构,所述搅拌机构构造成通过搅拌将注入到所述第一容器中的所述去离子水、所述浆料原液和所述双氧水混合均匀以获得所述抑菌抛光液。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213439033 U
(45)授权公告日 2021.06.15
(21)申请号 202022573638.8
(22)申请日 2020.11.09
(73)专利权人 西
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