一种新型磁流变抛光轮系统.pdfVIP

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  • 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型涉及抛光设备技术领域,具体地说,涉及一种新型磁流变抛光轮系统,包括两个平行设置的定位板,定位板的顶部设置有顶板,定位板的上部之间设置有磁场发生器,定位板的下部之间设置有抛光轮,抛光轮为圆柱体结构,一侧定位板的外侧设置有皮带,另一侧定位板的外侧设置有电机,皮带的上下两端设置有皮带轮,电机的输出端与上部的皮带轮传动连接,抛光轮的中部贯穿设置有内轴。本实用新型的设计通过圆柱形的抛光轮能够减小抛光面,并减小抛光轮加工生产难度,提高磁流变抛光系统加工精度,且通过双臂式的抛光轮方式提高抛光轮刚度,

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213561455 U (45)授权公告日 2021.06.29 (21)申请号 202022288575.1 (22)申请日 2020.10.15 (73)专利权人 长沙埃福思科技有限公司

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