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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型公开了一种雷达清洗装置和雷达系统,雷达清洗装置包括第一清洗支架;设置在第一清洗支架上的多个第一喷嘴,第一喷嘴内通有第一清洗介质并能够从雷达的一侧向雷达的待清洗表面喷射,第一喷嘴配合喷射出的第一清洗介质能够完全覆盖待清洗表面;第二清洗支架;设置在第二清洗支架上的多个第二喷嘴,第二喷嘴内通有第一清洗介质并能够从雷达的另一侧向待清洗表面喷射,第二喷嘴配合喷射出的第一清洗介质能够完全覆盖待清洗表面;第一清洗介质存储装置。第一喷嘴和第二喷嘴配合喷射出的第一清洗介质均能够完全覆盖待清洗表面,而且两
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213558688 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202021864556.2
(22)申请日 2020.08.31
(73)专利权人 北京经纬恒润科技股份有限公司
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