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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型公开了一种高分子缓冲覆型离型膜，包括，PTFE、ETPE材料的第一离型层，PI、TPX材料的半离型膜层，PET、环氧树脂的流胶缓冲膜层，低流胶半固化片的低流胶缓冲膜层，白卡纸层，PTFE、ETPE材料的第二离型层；其中，低流胶缓冲膜层的一面附着于白卡纸层的一面，流胶缓冲膜层的一面附着于低流胶缓冲膜层的另一面，半离型膜层的一面附着于流胶缓冲膜层的另一面，第一离型层附着于半离型膜层的另一面，第二离型层附着于白卡纸层的另一面；本实用新型的高分子缓冲覆型离型膜能够为混压结构的多层电路板提供良好
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213564882 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202022213669.2
(22)申请日 2020.10.08
(73)专利权人 深圳市瑞昌星科技有限公司
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