射频分析和总结.docxVIP

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  • 2023-03-20 发布于上海
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PAGE PAGE 29 不同电极鞘层电位降的关系a) 驱动直流接地; b) 驱动极悬浮 A1 A 1 A 2 A 2 A 1 隔直电容 (a)直流接地 (a)直流接地 (b)直流悬浮 图 14 容性耦合射频鞘层、等离子体内的空间电位分布 V ? V ? A 1 V ? A 2 ? ? 2 ? ?? 1 ? V1 ? V p V1 ? V p ?Vb V2 ? Vp , 有用的结论:通过改变电极面积比,可以得到所希望的驱动电极电位、地电极电位。 [问题]射频自偏压是否可以为正? V V ?A ?? V 1 ?? 2 ? 2 ? A ? 1 A1 A 1 A 2 隔直电容 隔直电容 图 16 A 1 A 时容性耦合射频鞘层、等离子体内的空间电位分布 2 射频电压的平均值决定值决定自偏压 由射频的电压的正幅值等离子体空间电位 性质: (1)容性耦合射频等离子体电位也随时间振荡 (2)与地电极的面积有关 降低空间电位的方法:(1)增加地电极面积;(2)磁场约束;(3)磁控放电EⅹB CCP 体应用 典型应用工艺有三种: 射频溅射沉积; 刻蚀; 等离子体增强化学气相沉积 匹配网络 匹配网络 靶 匹配网络 基片 基片 基片 匹配网络 (b)反应离子刻蚀 溅射沉积 (c)等离子体刻蚀 和 PECVD 图 18 射频等离子体典型应用工艺 工艺要求: 射频溅射沉积和反应离子刻蚀:

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