用于LPCVD工艺的悬臂桨.pdfVIP

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2023-03-23 发布于四川
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用于LPCVD工艺的悬臂桨。涉及半导体扩散工艺设备的结构改进。提供了一种结构紧凑、提升硅片作业质量的用于LPCVD工艺的悬臂桨。所述悬臂桨的一端设有进气嘴，另一端放置硅片载台上设有若干出气孔；若干所述出气孔分别与所述进气嘴连通；所述出气孔包括从上往下依次设置的限位部、活动部和支撑部；所述限位部呈环状，固定设置在所述出气孔的顶部；所述活动部内设有适配的封闭片；所述封闭片活动设置在所述活动部内；所述封闭片上设有若干均布设置的透气孔；所述支撑部固定设置在所述出气孔的底部。本实用新型具有结构紧凑、进一步

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213835531 U (45)授权公告日 2021.07.30 (21)申请号 202023085213.9 (22)申请日 2020.12.18 (73)专利权人扬州扬杰电子科技股份有限公司