一种离合器片进行双面抛光的装置.pdfVIP

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  • 2023-03-27 发布于四川
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本实用新型公开了一种离合器片进行双面抛光的装置,包括工作台、定位板、抛光装置一、抛光装置二和定位座,所述工作台的顶部安装有定位板,所述定位板的顶部滑动安装有抛光装置一,所述工作台的顶部安装有定位座,且定位座位于定位板的斜前方,所述工作台的顶部安装有撑块,且撑块位于定位板的一侧,所述撑块的顶部安装有抛光装置二,且抛光装置二位于抛光装置一的一侧。本实用新型通过设置有一系列的结构使本装置在使用的过程中能够对需要打磨抛光的离合器片进行双面抛光,节省加工时间提高加工效率,对打磨抛光的离合器片进行定位调节,

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213946030 U (45)授权公告日 2021.08.13 (21)申请号 202023151013.9 (22)申请日 2020.12.24 (73)专利权人 重庆洪本机械制造有限公司

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