原创力文档- 1
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- 2023-04-05 发布于四川
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本实用新型提供物理气相沉积腔可调磁控线圈装置，涉及物理气相沉积领域。该物理气相沉积腔可调磁控线圈装置，包括支撑固定机架，所述支撑固定机架的前端安装有磁控溅射机箱，所述磁控溅射机箱的上端安装有控制工作机箱，所述磁控溅射机箱的内部开设有两组一号限位滑槽，每组一号限位滑槽的上下两端均开设有二号限位滑槽，两组一号限位滑槽的相对一端均安装有定位固定轴承，每组一号限位滑槽远离对应的定位固定轴承的一端均开设有定位工作通孔，每组定位工作通孔远离对应的一号限位滑槽的一端均开设有传动工作槽孔。该物理气相沉积腔可调磁
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214142516 U
(45)授权公告日 2021.09.07
(21)申请号 202023337325.9
(22)申请日 2020.12.31
(73)专利权人 江苏信核芯微电子有限公司
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