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一种用于半导体器件制造的废气处理装置.pdfVIP

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  • 2023-04-15 发布于四川
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一种用于半导体器件制造的废气处理装置.pdf

    本实用新型公开了一种用于半导体器件制造的废气处理装置，包括反应室、水洗室、净水箱、冷却塔及水泵，反应室与水洗室之间设置换热机构，换热机构包括筒体一、导热棒，筒体一两端筒口分别与反应室底部出气口及水洗室顶部进口连接并设置阀门，筒体一周壁内含空腔且筒体一外壁上、下部分别设置第一出口、第一进口，第一出口与反应室的进气口连通，导热棒两端分别位于筒体一周壁空腔内、筒体一腔内，本方案中增加换热机构，在反应后高温气体经过筒体一时，以导热棒将其蕴含的热量传递给未进入反应室的废气，提前预热以降低反应的时间且提高能

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215654636 U (45)授权公告日 2022.01.28 (21)申请号 202122160944.3 B01D 50/60 (2022.01)

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