组合物、图案形成方法、半导体装置及装置的制造方法.pdfVIP

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  • 2023-04-16 发布于四川
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组合物、图案形成方法、半导体装置及装置的制造方法.pdf

提供一种组合物、图案形成方法、半导体装置及半导体装置的制造方法。根据一实施方式的含有化合物的组合物,该化合物包括:碳原子数为2以上18以下的含碳原子的连接基团、与连接基团连接的可聚合官能团、与连接基团连接的第一反应性基团和与连接基团连接的第二反应性基团。可聚合官能团包括(甲基)丙烯酰基和乙烯基中的至少一种。所述第一反应性基团包括选自硫醇基、二硫基和硫氰酸酯基中的至少一种。第二反应性基团包括选自烷氧基硅烷基、氯硅烷基和羟基中的至少一种。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115840334 A (43)申请公布日 2023.03.24 (21)申请号 202210186264.5 (22)申请日 2022.02.28 (30)优先权数据 2021-153336 202

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