一种双络合体系低应力化学镀铜液及其制备方法和应用.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于北京
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一种双络合体系低应力化学镀铜液及其制备方法和应用.pdf

本发明涉及化学镀铜技术领域,具体是涉及一种双络合体系低应力化学镀铜液及其制备方法和应用,该低应力化学镀铜液包括以下组分:络合剂25‑50g/L;铜离子1.2g‑2.2g/L;还原剂2‑8g/L;表面活性剂0.01‑1g/L;稳定剂0.01‑0.2g/L;加速剂0.001‑0.1g/L;氨基磺酸0.015‑0.2g/L;余量为去离子水;调节pH为12.5‑13;所述络合剂包括乙二胺四乙酸四钠和酒石酸钾钠两种。本发明的低应力化学镀铜液为双络合体系,稳定,线上使用周期长;同时通过加入氨基磺酸镀和稳定剂

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113897600 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202111149926.3 (22)申请日 2021.09.29 (71)申请人 江西超洋科技有限公司

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