原位原子层沉积工艺.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于四川
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本公开的实施例提供了用于在图案化工艺之间、期间、之前或之后在基板上形成期望的材料层的方法和设备。在一个实施例中,一种用于在基板上形成材料层的方法包含以下步骤:使第一气体前驱物脉冲到基板的表面上,该第一气体前驱物包括有机硅化合物。该方法还包含以下步骤:将来自该第一气体前驱物的第一元素设置到该基板的该表面上。该方法进一步包含以下步骤:在设置该第一元素的同时,维持基板温度小于约110摄氏度。使第二气体前驱物脉冲到该基板的该表面上。此外,该方法包含以下步骤:将来自该第二气体前驱物的第二元素设置到该基板的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113906539 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202080037396.0 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公

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