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导电层的形成方法、导电结构及其形成方法.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于四川
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导电层的形成方法、导电结构及其形成方法.pdf

    本发明实施例提供一种导电层的形成方法、导电结构及其形成方法，导电层的形成方法包括：提供第一导电膜和具有导电材料的溶液；将所述溶液涂覆于所述第一导电膜表面上，且在进行所述涂覆之前，所述第一导电膜的温度低于所述溶液的蒸发温度或升华温度；在进行所述涂覆的工艺步骤中或者在进行所述涂覆之后，加热所述第一导电膜，以使所述第一导电膜的温度高于或等于所述溶液的蒸发温度或升华温度，形成覆盖所述第一导电膜表面的第二导电膜，所述第二导电膜包括所述导电材料。本发明有利于提高导电层的结构稳定性和导电性能。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113889414 A (43)申请公布日 2022.01.04 (21)申请号 202010633735.3 (22)申请日 2020.07.02 (71)申请人 长鑫存储技术有限公司

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