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溅射装置以及溅射方法.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于四川
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溅射装置以及溅射方法.pdf

    本发明提供一种溅射装置以及溅射方法。溅射装置具备：真空腔，能够在内部将靶材与基板相互对置地配置；直流电源，能够与靶材电连接；气体提供源，向真空腔内导入包含氮气的成膜气体；和脉冲化单元，使从直流电源流向靶材的电流脉冲化，使用二元以上的组成的烧结合金靶材料作为靶材，在真空腔内生成等离子体从而在基板上形成包含氮的三元以上的组成的氮化物薄膜。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113881921 A (43)申请公布日 2022.01.04 (21)申请号 202110731180.0 (22)申请日 2021.06.29 (30)优先权数据 2020-1159

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