大米表面光滑处理装置及抛光方法.pdfVIP

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  • 2023-04-22 发布于四川
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本发明公开了一种大米表面光滑处理装置及抛光方法,大米表面光滑处理装置包括底座和位于底座上的打磨组件和抛光组件,所述打磨组件包括第一磨道和第二磨道,所述第二磨道的出料口底部设置分离箱,所述分离箱与抛光组件中抛光箱连通,本发明中的大米表面光滑处理装置可对糙米进行两次碾白和抛光,在碾白过程中可进行筛分,得到颗粒较为饱满的大米,抛光之前通过抛光方法对大米的表面进行快速的润湿,得到抛光完全和均匀的的精制大米,过程连续,自动化程度高,加工效率高。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113926516 A (43)申请公布日 2022.01.14 (21)申请号 202111124744.0 B02B 3/08 (2006.01) (22)申请日 20

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