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本发明公开一种利用千束独立可控PPI点阵进行高通量直写的装置,该装置主要包含激发光和抑制光两路光,激发光路包含核心元件数字微镜阵列DMD、微透镜阵列MLA和连续变形镜DM,抑制光路包括核心元件空间光调制器SLM。本发明利用微透镜阵列MLA产生千束激发光点阵,利用高速连续变形镜DM矫正系统波前像差,实现点阵分布均匀性和光斑质量的优化,利用数字微镜阵列DMD对点阵的开关、强度进行独立调控,抑制光路通过空间光调制器SLM产生四束光,四束光在物镜焦平面干涉产生的点阵暗斑用于涡旋抑制光,与激发光点阵在物镜
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114019766 A
(43)申请公布日 2022.02.08
(21)申请号 202111266973.6
(22)申请日 2021.10.28
(71)申请人 之江实验室
地址 3
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