利用卤化物化学品的光致抗蚀剂显影.pdfVIP

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2023-04-24 发布于北京
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利用卤化物化学品的光致抗蚀剂显影.pdf

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光致抗蚀剂的显影对于例如用于在高分辨率图案化的背景下形成图案化掩模会是有用的。显影可使用例如卤化氢之类的含卤化物化学品而完成。使用干式或湿式沉积技术可在半导体衬底上沉积含金属抗蚀剂膜。该光致抗蚀剂膜可以是EUV敏感的含有机金属氧化物或含有机金属薄膜抗蚀剂。在暴露后，使用湿式或干式显影将经光图案化的含金属抗蚀剂进行显影。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114026501 A (43)申请公布日 2022.02.08 (21)申请号 202080046943.1 理查德 ·A ·戈奇奥　