第章 电子束和离子束加工课件.pptVIP

加工非球面透镜 离子镀膜加工有溅射沉积和离子镀两种。 离子镀时工件不仅接受靶材溅射来的原子，还同时受到离子的轰击，这使离子镀具有许多独特的优点： 膜层均匀致密、韧性好、附着力强、膜层不易脱落 结合面处存在物理气相沉积和化学反应 绕射性好，使基板的所有暴露的表面均能被镀复。 可镀材料广，金属、非金属、合成材料、半导体材料等均可镀复。 适应性强，可获得耐蚀层、润滑膜、耐磨层、装饰膜 沉积速度快，50微米/秒 （2）离子镀膜加工 离子镀膜附着力强、膜层不易脱落的原因 镀膜前高速离子冲击基体表面，清洗掉表面的沾污和氧化物，提高了工件表面的附着力。 镀膜时，溅射出来的基材原子与工作气氛中的原子和离子碰撞而重返工件，形成共混膜层。 膜层增厚，逐渐过渡到单纯由膜材原子构成的膜层。 混和过渡层的存在，减小了膜材和基材两者膨胀系数不同而产生的热应力，增强了两者的结合力，镀层组织致密，针孔气泡少。 用于镀制润滑膜、耐热膜、耐蚀膜、装饰膜和电气膜等。 代替镀硬铬，可减少镀铬公害。 在切削工具表面镀氮化钛、碳化钛等超硬层，可以提高刀具的耐用度。 离子镀技术的典型应用 采用低压（几十伏）、大电流（100A左右）的电子束射入坩埚，加热蒸镀材料并使蒸发原子电离，把蒸镀材料的蒸发与离化过程结合起来，使离子化率高达22％～40％，是一种镀膜效率高、膜层质量好的方法。 空心阴极放电离子镀（HCD） * 在真空