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- 2023-04-25 发布于北京
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本发明涉及一种优化金属刻蚀提升器件性能的方法，包括以下步骤：在脊形光波导的上包层形成孔结构；进行金属溅镀；进行金属第一次刻蚀，光刻焦距针对脊形光波导的上方得以精准控制金属微小的间距；进行金属第二次刻蚀，光刻焦距可以集中在其他位置较低的区域形成最终的金属形貌。本发明的有益之处在于，通过优化金属刻蚀工艺可以适配更小的孔到波导的距离，从而可以通过缩小距离降低PiN串联电阻，提升器件性能。改变了金属的形貌，金属分布在波导侧壁可以增加散热的能力，在气件操作过程产生的温度不致于过量累积，得以保持器件稳定的性
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114035270 A
(43)申请公布日 2022.02.11
(21)申请号 202111314960.1
(22)申请日 2021.11.08
(71)申请人 浙江光特科技有限公司
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