1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种改善光学元件面形的薄膜制备方法.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约4.04千字
  • 约 6页
  • 2023-04-26 发布于四川
  • 举报

一种改善光学元件面形的薄膜制备方法.pdf

    本发明涉及一种改善光学元件面形的薄膜制备方法。通过具有张应力的高折射率膜层对现有薄膜应力进行匹配，减弱薄膜应力对光学元件面形的不利影响，从而改善光学元件面形。此方法显著改善了光学元件面形，并且可以减少工序，降低成本。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114086119 A (43)申请公布日 2022.02.25 (21)申请号 202111446845.X (22)申请日 2021.12.01 (71)申请人 福建福晶科技股份有限公司

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >