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- 2023-04-26 发布于四川
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本发明构思提供了一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：头部单元，所述头部单元被配置为将墨水排放到基板；供应单元，所述供应单元被配置为向所述头部单元供应所述墨水并且包括具有内部空间的贮存器；以及压力调整单元，所述压力调整单元被配置为调整所述内部空间的压力，并且其中所述压力调整单元包括：第一压力调整单元；以及第二压力调整单元，所述第二压力调整单元中每单位时间改变所述内部空间的压力的大小大于所述第一压力调整单元。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115991049 A
(43)申请公布日 2023.04.21
(21)申请号 202211272911.0
(22)申请日 2022.10.18
(30)优先权数据
10-2021-0138773
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