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- 2023-04-26 发布于北京
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本发明公开了一种量子点膜层、显示装置和量子点膜层的制备方法,以改善目前的量子点图案化较困难的问题。所述量子点膜层,包括衬底基板,以及位于所述衬底基板一侧的多个图案部,所述图案部包括量子点,以及固液可逆结构;其中,所述固液可逆结构包括偶氮苯基团,且所述偶氮苯基团处于反式异构体状态。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114133925 A
(43)申请公布日 2022.03.04
(21)申请号 202111421302.2
(22)申请日 2021.11.26
(71)申请人 北京
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