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刻蚀机参数设定 功率太高，离子的能量较高会对硅片边缘造成较大的轰击损伤，导致边缘区域的电性能变差从而使电池的性能下降。因此，人们通常倾向于采用功率相对较低而时间相对较长的刻蚀工艺。 等离子体刻蚀过程中，载能离子也会对硅片边缘附近的正反表面区域造成影响。刻蚀过程越长，这种影响越严重。 第三十页，共五十页，2022年，8月28日 刻蚀参数的影响 功率：小，气体利用不完全，刻蚀不够；大，钻蚀，对边缘的轰击加剧 时间：短，刻蚀不够；长，过度刻蚀 压力：与气体流量相关，决定气体的利用率 反射功率：影响有效功率 第三十一页，共五十页，2022年，8月28日 清洗机参数设定 槽号 1 2 3 4 5 6 溶液 DI 5%～10% HF 5%～10% HF DI DI DI 时间（s） 90～180 90～180 90～180 90～180 90～180 90～180 第三十二页，共五十页，2022年，8月28日 清洗参数的影响 HF浓度：小，洗不干净，大，浪费酸，没用 清洗时间：短，洗不干净，大，没必要 甩干机转速 甩干机时间 甩干机气体压力 第三十三页，共五十页，2022年，8月28日 RothRau参数设定 线号 NH3 SiH4 功率 压强 温度 1 1742 858 2400-3400 0.12 400 2 1333 667 0.15 3 1333 667 0.15 5 1745