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多弧离子镀膜设备.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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多弧离子镀膜设备.pdf

    本发明提供了一种涉及真空镀膜技术领域的多弧离子镀膜设备，包括放置在壳体内部的真空室、抽气组件、冷却器、PLC控制器以及电源；电源电连接PLC控制器，PLC控制器通过线路分别连接真空室抽气组件以及冷却器，抽气组件连接真空室、并对真空室进行真空处理，冷却器通过水管分别连接真空室和抽气组件，使真空室和抽气组件进行冷却；真空室包括框架、面板、电弧离子源装置以及转架装置，多块面板依次连接于框架四周，多个电弧离子源装置连接于面板内壁上，框架内部连接有转架装置，通过转架装置进行样品移动。本发明将“电、气、水”

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114293153 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111520386.5 (22)申请日 2021.12.13 (71)申请人 上海

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