包覆式多量子阱NLED阵列结构及其制作方法.pdfVIP

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  • 2023-05-05 发布于四川
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包覆式多量子阱NLED阵列结构及其制作方法.pdf

本发明提出一种包覆式多量子阱NLED阵列结构及其制作方法,提供的方案包括透明电极层,图案化处理的第一型半导体层、多量子阱层和具有表面微结构的第二型半导体层、二氧化硅保护层、具有高反射性质的金属电极层;其中,多量子阱层在第一型半导体层的圆台型图案上直接生长,多量子阱层表面包覆在第一型半导体的圆台型图案上,以增大出光面积,提高器件的发光亮度,并且可以释放GaN与蓝宝石衬底之间的应变力,抑制量子阱限制斯塔克效应,增加LED的内量子效率。同时,第二型半导体上的表面微结构为周期性光栅阵列结构,以及整体梯形

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114300503 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111618294.0 H01L 33/32 (2010.01)

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