纳米图形衬底的制备方法.pdfVIP

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2023-05-05 发布于北京
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纳米图形衬底的制备方法.pdf

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本发明公开一种纳米图形衬底的制备方法，其通过对依次设置在透明衬底上的透光层和不透光层分别进行刻蚀，在不透光层上形成锥台形的第二孔洞和在透光层上形成第三孔洞；并通过去除第一掩膜，形成第一坯体，以及在第二孔洞和第三孔洞中制备第二掩膜，再对透光层和不透光层分别进行刻蚀，在不透光层上形成锥形的第一凸起和在透光层上形成第二凸起的方式，在衬底上形成具有严格周期的图形，而且，由于在衬底上形成的图形的图案可以根据第二孔洞的设置实现，且刻蚀过程无需借助昂贵的专用设备，可以在不提高成本的基础上，在大尺寸的衬底上灵活

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114300588 A (43)申请公布日 2022.04.08 (21)申请号 202111651524.3 (22)申请日 2021.12.30 (71)申请人广东省科学院半导体研究所