一种基于pH敏感的万古霉素修饰碳纳米点的制备方法.pdfVIP

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2023-05-06 发布于四川
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一种基于pH敏感的万古霉素修饰碳纳米点的制备方法.pdf

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本发明涉及一种基于pH敏感的万古霉素修饰碳纳米点的制备方法，借助酰氯介导的氨基羧基缩合反应，将万古霉素共价修饰到碳纳米点表面，形成万古霉素修饰的碳纳米点。本发明制备合成万古霉素修饰碳纳米点的合成步骤简单，反应产率高；获得的万古霉素修饰碳纳米点具有良好的靶向和pH敏感性，能够对细菌生物膜的酸性环境具有良好的聚集响应效应，从而提高近红外光区的吸收，优化光热转换性能，表现出显著增强的光热杀灭效果，能够用于革兰氏阳性耐药菌及其生物膜的光热治疗。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114306598 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111635425.6 (22)申请日 2021.12.29 (71)申请人鲁东