一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置.pdfVIP

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2023-05-07 发布于北京
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一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置.pdf

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本发明涉及一种用于延长靶材供给镀膜时间的离子镀膜源装置，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括调节装置，调节装置用于调整靶材沿源阳极管的中心线方向进行移动。本发明提供的上述技术方案，可以使用长度加长后的靶材，可延长靶材供给镀膜的时间11倍左右，减少了靶材更换频率，节省时间。并且通过调节装置的调整，使靶材的离化面一直处于有利有效的工作位置，保证靶材离化

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114369801 A (43)申请公布日 2022.04.19 (21)申请号 202111599007.6 (22)申请日 2021.12.24 (71)申请人安徽纯源镀膜科技有限公司