1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约3.21万字
  • 约 31页
  • 2023-05-09 发布于四川
  • 举报

用于处理基板的装置和用于处理基板的方法.pdf

    本发明涉及用于处理基板的装置和用于处理基板的方法。本发明构思提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，该壳体具有内部空间；板，该板将该内部空间分成上方的第一空间和下方的第二空间，并且该板具有多个通孔；第一气体供应单元，该第一气体供应单元被配置成将第一气体供应到该第一空间；等离子体源，该等离子体源用于在该第一空间或该第二空间处产生等离子体；以及监测单元，该监测单元安装在该板处，并且被配置成监测在该第一空间或该第二空间处产生的该等离子体的特性。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116072501 A (43)申请公布日 2023.05.05 (21)申请号 202211364471.1 H01L 21/67 (2006.01) (22)申请日 2022.11.

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >