1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

集成电路结构及其布局图的生成方法.pdfVIP

  • 10
  • 0
  • 约3.3万字
  • 约 36页
  • 2023-05-10 发布于四川
  • 举报

集成电路结构及其布局图的生成方法.pdf

    本发明的实施例提供了一种生成集成电路(IC)布局图的方法，包括：获得对应于相邻金属层的交叉的第一和第二多个轨道的网格；确定相应的第一和第二多个轨道的第一和第二节距符合第一规则；将通孔定位图案应用于网格，从而将通孔区域限制于交替对角网格线；将通孔区域定位在交替对角网格线的一些或所有网格交叉点处；并且生成包括沿交替的对角网格线定位的通孔区域的IC布局图。本发明的实施例还提供了一种集成电路结构。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114520225 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202210083545.8 (22)申请日 2022.01.25 (30)优先权数据 63/142,867 2021

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >