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- 2023-05-10 发布于四川
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本申请实施例公开了一种光刻方法、光刻装置和计算机存储介质，该方法包括：确定光刻机的曝光强度；根据曝光强度，确定光刻机对应的目标预设区间；根据目标预设区间，确定曝光剂量符合目标曝光剂量的至少一个目标晶圆；其中，目标预设区间与目标曝光剂量之间具有对应关系；利用光刻机对至少一个目标晶圆进行光刻处理。本申请能够提高光刻机的生产能力。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116068858 A
(43)申请公布日 2023.05.05
(21)申请号 202111287054.7
(22)申请日 2021.11.02
(71)申请人 长鑫存储技术有限公司
地址 23
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