紫外光清洁系统和使用方法.pdfVIP

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  • 2023-05-10 发布于四川
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本公开涉及紫外光清洁系统和使用方法。所述清洁系统包括被配置为发射预定波长范围内的紫外(UV)光的UV光源以及对所述预定波长范围具有预定透明度的目标。所述清洁系统还可以包括可去除地联接到所述目标的接触元件。所述UV光源清洁所述目标,所述目标被配置为响应于力被施加到所述目标而引起所述接触元件的运动。所述清洁系统还可以包括一个或更多个反射器或吸收器,所述反射器或吸收器联接到所述目标或所述UV光源或相对于所述目标或所述UV光源设置,以控制UV光的发射。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114515728 A (43)申请公布日 2022.05.20 (21)申请号 202111287634.6 A61L 2/24 (2006.01) (22)申请日 2021.11.0

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