半导体制造导论.docx

第五章章前 至少列出三种重要的加热制程 氧化，退火，沉积是三种重要的加热制程 说明直立式和水平式炉管的根本系统并列出直立式炉管的优点 气体输送系统，制程炉管，把握系统，气体排放系统，装载系统。LPCVD 的话再加上真空系统优点：占地面积小，微粒污染较低，能够处理大量的晶圆，均匀性较佳，修理本钱较低 说明氧化制程 氧化是最重要的制程之一，它是一种添加制程，把氧气加到硅晶圆上，在晶圆外表形成二氧化硅 说明氧化前清洗的重要性 氧化制程前的硅晶圆外表清洗是格外重要的，由于受到污染的外表会供给成核位置而形成二氧化硅多晶体层 识别干式氧化和湿式氧化制程及应用的差异性 干式制程：闲置状态下通入净化氮气气体