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本发明公开一种封装结构、光电装置及其制备方法。所述封装结构包括至少一层缓冲层和至少一层阻隔层,所述缓冲层与所述阻隔层交替层叠设置,所述缓冲层包括金属醇盐,所述阻隔层用于阻隔水氧。本发明缓冲层可以为沉积阻隔层提供平坦表面,增加有效扩散路径,延缓水氧渗透,其低温制程、内部残留的未反应活性烷基和紫外吸收剂,可以避免后续制程中热辐射、氧、紫外光对光电器件造成的损伤。SiOx或SiONx或它们的复合膜层具有较少薄膜表面缺陷和较低表面应力,并兼顾优异的水氧阻隔能力。所述封装结构可通过溶液法制备,适合大尺寸器
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114695701 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202011630858.8
(22)申请日 2020.12.30
(71)申请人 TCL科技集团股份有限公司
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