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一种用于钻石定制图案和电极的晶体内部图形化方法,本发明的目的是为了解决现有钻石内部难以定制图案和电极的问题。本发明晶体内部图形化方法如下:一、将选取所要制作于钻石晶体内部的图案转化为黑白模式,作为光刻机输入掩膜图形;二、将钻石衬底置于混酸溶液中超声清洗;三、采用光刻工艺以光刻胶作为掩模版,通过掩模在钻石表面沉积金属膜或非金属膜;四、将带有图案的钻石衬底置于等离子体化学气相沉积系统中,通入生长气体进行外延生长,得到带有定制图案的钻石。本发明利用化学气相沉积工艺再外延一层晶体,将图案覆盖于晶体内部能
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 114717655 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 202210422761.0 (51)Int.Cl.
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