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2023-05-15 发布于北京
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本公开提供了一种清洗装置，包括：工作台，用于承载待清洁工件；清洗部件，清洗部件的至少部分设置在工作台的上方，以使清洗部件处于工作状态，清洗部件用于向待清洁工件喷射清洁介质；防护组件，防护组件具有气体流通管件和与气体流通管件连通的气体喷出部，气体喷出部与工作台之间的最小距离小于清洗部件的清洁介质出口端与工作台之间的最小距离，以通过气体喷出部向清洗部件的下方吹出气流。本公开解决了现有技术中的在晶圆清洗之后容易导致晶圆质量降低的问题。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114709153 A (43)申请公布日 2022.07.05 (21)申请号 202210386157.7 (22)申请日 2022.04.13 (71)申请人长鑫存储技术有限公司地址 230