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本发明公开了一种i线光刻胶及其制备方法和应用。本发明公开的i线光刻胶组合物的制备方法包括下列步骤:将i线光刻胶组合物的各组分混合均匀,即可;所述i线光刻胶组合物包括以下组分:树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂;所述树脂包括下述重量份数的组分:80‑90份酚醛树脂、20‑50份树脂C和10‑15份树脂D;所述酚醛树脂为酚醛树脂A和酚醛树脂B的至少一种。采用本发明的i线光刻胶组合物在用于i线光刻时得到的光刻胶图光敏性和分辨率高。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116107162 A
(43)申请公布日 2023.05.12
(21)申请号 202111322698.5
(22)申请日 2021.11.09
(71)申请人 上海新阳半导体材料股份有限公司
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