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本发明属于半导体集成电路引线框架蚀刻制造的技术领域,具体涉及半导体引线框架蚀刻产品制造的镀银装置,这种半导体引线框架蚀刻产品制造的镀银装置包括:双向轨道、设于轨道上的遮蔽冶具、设于遮蔽冶具的推动机构,推动机构推动遮蔽冶具在双向轨道上滑动;遮蔽冶具上活动连接有阳极板,阳极板通过固定组件固定;推动机构包括驱动装置和设于驱动装置的驱动轴上的曲轴,曲轴通过连接组件转动连接于遮蔽冶具;遮蔽冶具包括底座和设于底座上的若干喷嘴,底座两侧延伸有放置于双向轨道上的滚轮。这种半导体引线框架蚀刻产品制造的镀银装置具有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114717620 A
(43)申请公布日 2022.07.08
(21)申请号 202210324353.1 C25D 21/12 (2006.01)
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