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PAGE PAGE 1 2016 高三化学专题复习———工艺流程题 一、解题常用方法 化学工艺流程题结构一般包括题头、题干和题尾三部分。题头一般简单介绍以何种物质 (主要成分是什么、含什么杂质等，要注意一些关键信息)为原料制备哪种物质，以及物质的 性质和用途。题干部分则是工业制备的简化工艺流程图。题尾部分则是根据工业生产流程中涉及到的化学知识命题者精心设计的系列问题。对于学生解题需要的未学过的信息在三个部分都有可能出现，审题时须全盘考虑。 二、解题基本步骤 审题：划出重要信息 分析流程：①反应物是什么？②发生了什么反应？③该反应造成什么后果？④对 制造产品有什么作用？抓住一个关键点：一切反应或操作都是为了获得产品而服务。 技巧：先答与流程无关的空二、解题思维方向 化工流程题目在流程上一般分为 3 个过程 原料处理的方法和作用 ①研磨的目的： 增大接触面 积，加快溶解或加快反应速率。 ②酸溶、碱溶，水溶（酸浸、碱浸、水浸）——溶解 ③灼烧、煅烧：改变结构，使一些物质在后续过程中易溶解，并可使一些杂质(如有机物) 在高温下氧化、分解。 分离提纯阶段的常考点 ①调 PH 值除杂，控制溶液酸碱性使金属离子形成氢氧化物沉淀例如：已知下列物质开始沉淀和沉淀完全时的PH 如下表所示： 物质 开始沉淀 沉淀完全 Fe(OH)3 2.7 3.7 Fe(OH)2 7.6 9.6 Cu(OH)2 4.7 6.2 若要除去Cu2+溶液中含有Fe2+，应该怎么做？ 提示：先用氧化剂把Fe2+氧化为Fe3+，再调溶液PH 使 Fe3+完全沉淀而Cu2+不沉淀。 注意：调 PH 所需物质一般应该满足两点：a.能与 H+反应，使溶液 PH 增大.b.不引入新的杂质 流程： ②试剂除杂，要注意加入的是沉淀剂还是氧化剂（或还原剂） ③控制体系的温度 采取加热的目的： ；加速某固体的溶解，加快反应速率；减少气体生成物的溶解并使其逸出；使平衡向需要的方向移动；趁热过滤，防止某物质降温时因析出而损耗或带入新的杂质。 3 4 3 2 2 3控制低温：防止物质的分解，如 NaHCO 、NH HCO 、H O 、HNO (浓)等；防止物质的挥发，如盐酸、醋酸等；抑制物质的水解，如冰水洗涤，以防止洗涤过程中的溶解损耗；增 3 4 3 2 2 3 获取产品阶段的常考点 ①洗涤：a.水洗，b.冰水洗，c.有机溶剂洗，其目的是： 。洗去目标物表面的杂质离子；减少目标物的溶解损耗或增大有机杂质的溶解量；防止目标物形成结晶水合物；使晶体快速干燥。 ②蒸发，反应时的气体氛围抑制水解，如从溶液中析出FeCl3、AlCl3、CuCl2 等固体，以防止其水解 ③从溶液中得到溶解度受温度影响较大溶质的方法： 。蒸发浓缩，冷却结晶，过虑，洗涤，干燥。 可循环物质的判断：①流程图中回头箭头的物质 ②生产流程中后面新生成或新分离的物质(不要忽视结晶后的母液)，可能是前面某一步反应的相关物质。 四、解题答题规范 检验物质：取样—加试剂—说现象—得结论。取少量待测液于试管中，加入XX 试剂， 有 XX 现象，说明XX 结论 在写某一步骤是为了除杂，应该注明“是为了除去XX 杂质”。在写某一步骤中的颜色变化情况，应该写明“某色变到某色”，如果是变成无色，可以只写“褪色”。在写加入某氧化剂的作用时，应写明：是将XX 氧化成XX 检验是否沉淀完全：静置，往上层清液中滴加某试剂，振荡，观察是否再产生沉淀。或者：过滤，取少量上层清液于试管中，滴加某试剂，振荡，观察是否再产生沉淀。 检验沉淀是否洗涤干净：取最后一次洗涤液于试管中，加入XX 试剂，有 XX 现象，说 明 XX 结论（洗涤离子为沉淀吸附的离子，一般为加入沉淀剂时过量的物质） 洗涤沉淀操作： 往漏斗中加入蒸馏水至浸没沉淀，待水自然流下后，重复以上操作2-3 次 例题：用含有 A1 O 、SiO 和少量 FeO·xFe O 的铝灰制备 A1 (SO ) ·18H O。，工艺流程 2 3 2 2 3 2 4 3 2 如下(部分操作和条件略): 4Ⅰ、向铝灰中加入过量稀H2SO ，过滤: Ⅱ、向滤液中加入过量KMnO4 溶液，调节溶液的pH 约为 3； Ⅲ、加热，产生大量棕色沉淀，静置，上层溶液呈紫红色: 4 Ⅳ、加入MnSO4 至紫红色消失，过滤; Ⅴ、浓缩、结晶、分离，得到产品。 H2SO4 溶解A12O3 的离子方程式是 KMnO4 - 氧化Fe2+的离子方程式补充完整： MnO4-+ Fe2++ = Mn2++ Fe3++ （3）已知： Al（OH Al（OH） 3 Fe（OH） 6.3 8.3 2 Fe（OH） 3 开始沉淀时 完全沉淀时 3.4 4.7 1.5 2