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本发明公开了一种阵列基板的制作方法、阵列基板及显示面板，所述阵列基板的制作方法包括：提供一基板；在基板上依次形成第一金属层、栅极绝缘层和有源层；在所述有源层上依次形成至少两层掺杂非晶硅薄膜，至少两层所述掺杂非晶硅薄膜形成掺杂层；其中，所述掺杂非晶硅薄膜采用等离子体化学气相沉淀法沉积。通过采用等离子体化学气相沉淀法沉积，采用不同沉积功率形成有至少两层掺杂非晶硅薄膜，其中一层掺杂非晶硅薄膜采用低射频功率沉积，其中一层采用高射频功率沉积，形成不同致密性的掺杂非晶硅薄膜，有利于改善膜质，降低沉积第二金属
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113161292 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202110391323.8
(22)申请日 2021.04.12
(71)申请人 北海
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