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- 2023-05-17 发布于四川
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本发明提供一种TiN薄膜、制备方法及其作为红外隐身薄膜的应用，所述TiN薄膜具有微纳米结构，所述TiN薄膜具有[200]晶面；其制备工艺简单，不仅能够提高TiN薄膜的耐熔、耐磨和耐腐蚀性能，而且能够有效降低了TiN薄膜的红外发射率，使得TiN薄膜的红外隐身性能得到有效提高。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114807847 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210366933.7
(22)申请日 2022.04.08
(71)申请人 西安热工研究院有限
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