基于P型区的异质结势垒肖特基二极管及其制备方法.pdfVIP

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  • 2023-05-17 发布于四川
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基于P型区的异质结势垒肖特基二极管及其制备方法.pdf

本发明公开了一种基于P型区的异质结势垒肖特基二极管及其制备方法,该二极管自下而上依次包括阴极、n+‑Ga2O3衬底层、n‑‑Ga2O3漂移层、P型区、阳极,其中,所述n‑‑Ga2O3漂移层的上表面设有若干多阶斜槽形结构,所述P型区位于所述多阶斜槽形结构内;所述阳极位于所述n‑‑Ga2O3漂移层和所述P型区上方。其中,P型区采用氮化镓材料。本发明通过采用多阶斜槽结构形成P型区,增大了P型区与漂移层的接触面积,使得pn结对电场的调制作用更加明显,利用产生的横向PN结分散肖特基结边缘处的电场,使器件具

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114823922 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210190201.7 H01L 21/329 (2006.01) (22)申请

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