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- 2023-05-17 发布于四川
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本发明属于陶瓷材料技术领域,公开了一种高抗弯强度微晶玻璃基低温共烧陶瓷材料及其制备方法,由80‑100%的微晶玻璃主料与0.1‑20%的添加剂组成。微晶玻璃主料由20‑50%的CaO、20‑50%的SiO2、10‑30%的B2O3、0.1‑5%的Al2O3、0.1‑5%的MgO、0.1‑5%的ZnO、0.1‑2%的Na2O以及0.05‑2%的K2O组成。添加剂为SiC晶须。本发明制备的微晶玻璃材料烧成收缩率10‑15%(X、Y轴)、15‑22%(Z轴);本发明的微晶玻璃烧结体气孔率低、结构致密,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114804643 A
(43)申请公布日 2022.07.29
(21)申请号 202210245827.3
(22)申请日 2022.03.14
(71)申请人 重庆科技学院
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